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NR9 3000PY光刻胶公司常用解决方案「多图」

发布时间:2021-11-02 03:35:01        







PR1-1000A1NR9 3000PY光刻胶公司NR9 3000PY光刻胶公司

5,显影液

在已经***的硅衬底胶面喷淋显影液,或将其浸泡在显影液中,正胶是***区、而负胶是非***区的胶膜溶入显影液,胶膜中的潜影显现出来,形成三维图像。



显影完成后通常进行工艺线的显影检验,通常是在显微镜下观察显影效果,显影是否彻底、光刻胶图形是否完好。

影响显影的效果主要因素:

1,***时间,2前烘温度和时间,3光刻胶膜厚,4显影液浓度温度,5显影液的搅动情况。





NR77-20000PYNR9 3000PY光刻胶公司

光刻胶存储条件及操作防护

光刻胶是一种可燃液体,储存条件应符合对应的***,不要与强氧化剂混合,存放在通风良好的地方,保持容器密闭,避免吸入蒸汽或雾气,避免接触眼睛、皮肤或衣服,操作后彻底清洗。


个人防护

眼睛:佩戴化学飞溅护目镜。

皮肤:戴上适当的防护手套防止皮肤暴露。


服装:穿戴合适的防护服防止皮肤暴露。

呼吸器:无论何时在工作环境下呼吸保护必须遵循中国职业安全健康***标准的规定和ANSI美国***标准学会Z88.2的相关要求,或必须执行欧洲呼吸防护EN 149的标准。



NR9-3000PY

11.请教~有没有同时可以满足RIE

process 和Lift-off

process的光阻,谢谢!

A 我们推荐使用Futurrex

NR1-300PY来满足以上工艺的需求。

12.Futurre光刻胶里,有比较容易去除的负光阻吗?

A NR9-系列很容易去除,可以满足去胶需要。

13.我们目前用干膜做窄板,解析度不够,希望找到好的替代光阻?

A NR9-8000因为有很高的AR比例,适合取代,在凸块的应用上也有很大的好处。

14.传统的Color

filter 制程,每个颜色的烘烤时间要2-3个小时,有没有更快的方法制作Coior

filter?

A 用于Silylation制程------烘烤时间只需要2分钟,同时光阻不需要Reflow, 颜色也不会老化改变,只需要在Filter上面加热溶解PR1-2000S光阻,Microlenses就能形成!

15.请问有专门为平坦化提供材料的公司吗?

A 美国Futurrex公司,专门生产应用***的,可以为平坦化的材料提供PC3-6000和P***-1000都是为平坦化用途设计,台湾企业用的比较多。

16.我需要一种可用于钢板印刷的方式来涂布PROTECTIVE

COATING,那种适合??

A 推荐美国Futurrex,P***-10000。

17.腊是用来固定芯片的,但很难清洗干净,哪里有可以替代的产品介绍下,谢谢?

A 我们公司是使用Futurrex

PC3-6000,可以替代的,而且去除比较容易,你可以试用下。

18.请问有没有100微米厚衬底为镀镍硅并可用与MEMS应用的光刻胶吗?

A NR4-8000P可以做到140微米的厚度,并在镀镍的衬底上不会出现难去胶的问题,如果是其他非镀镍衬底NR9-8000P是适合的选择。

19.谁有用在光波导图案的光刻胶?是否可以形成角度为30度的侧壁?

A 你必须实现通过逐步透光来实现掩膜图案棱的印刷,NR4-8000P是专门为光波导图案应用进行设计的产品。


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