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发布时间:2021-11-18 13:34:23
正性光刻胶
正性光刻胶
正性光刻胶也称为正胶。正性光刻胶树脂是一种叫做线性酚醛树脂的酚醛甲醛,提供光刻胶的粘附性、化学抗蚀性,当没有溶解存在时,线性酚醛树脂会溶解在显影液中,感光剂是光敏化合物,常见的是重氮萘醌(DNQ)。在***前,DNQ是一种强烈的溶解,降低树脂的溶解速度。在紫外***后,DNQ在光刻胶中化学分解,成为溶解度增强剂,大幅提高显影液中的溶解度因子至100或者更高。这种***反应会在DNQ中产生羧酸,它在显影液中溶解度很高。LCD市场助力***LCD面板总出货面积增长,LCD光刻胶需求增加。正性光刻胶具有很好的对比度,所以生成的图形具有良好的分辨率。
NR9-1000py
问题回馈:
1.我们是LED制造商,麻烦推荐几款可以用于离子蚀刻和Lift-off工艺的光刻胶。
A 据我所知,Futurrex
有几款胶很,NR7-1500P
NR7-3000P是专门为离子蚀刻
设计的,NR9-3000PY可以用于Lift-off上的应用。
2.请问有没有可以替代goodpr1518,Micropure去胶液和goodpr显影液的产品?
A 美国光刻胶,Futurrex
正胶PR1-2000A
, 去胶液RR4,和显影液RD6可以解决以上问题。
3.你们是否有可以替代Shipley
S1805的用于DVD的应用产品?
A 我们建议使用Futurrex
PR1-500A , 它有几个优点:比较好的解析度,比较好的线宽控制,
反射比较少,不需要HMDS,RIE后去除容易等~
4. 求助,耐高温的光阻是那一种?
A Futurrex, NR7 serious(负光阻)Orpr1 serious(正光阻),再经过HMCTS
silyiation process,可以达到耐高温200度,PSPI透明polyimide,可耐高温250度以上。
5.厚膜光阻在镀金应用上,用哪一种比较理想?
A Futurrex , NR4-8000P比干膜,和其他市面上的湿膜更加适合,和理想。
6.请教LIFT-OFF制程哪一种光阻适合?
A 可以考虑使用Futurrex
,正型光阻PR1,负型光阻用NR1&NR7,它们都可以耐高温180度,完全可以取代一般制作PATTERN的光阻。
7.请问,那位知道,RIE
Mask,用什么光阻比较好?
A 正型光阻用PR1系列,负型光阻使用NR5,两种都可以耐高温180度。
8.一般厚膜制程中,哪一种光阻适合?
A NR9-8000P有很高的深宽比(超过4:1),一般厚膜以及,MEMS产品的高需求。
9.在DEEP
RIE和MASK 可以使用NRP9-8000P吗?
A 建议不使用,因为使用NR5-8000更加理想和适合。
10.我们是OLED,我们有一种制程上需要一层SPACER,那种光阻适合?
A 有一种胶很适合,美国Futurrex
生产的NR1-3000PY
and和
NR1-6000PY,都适合在OLED制程中做spacers
光刻胶
光增感剂
是引发助剂,能吸收光能并转移给光引发剂,或本身不吸收光能但协同参与光化学反应,起到提高引发效率的作用。
光致产酸剂
吸收光能生成酸性物质并使***区域发生酸解反应,用于化学增幅型光刻胶。
助剂
根据不同的用途添加的颜料、固化剂、分散剂等调节性能的添加剂。
主要技术参数
分辨率(resolution)
是指光刻胶可再现图形的小尺寸。一般用关键尺寸来(CD,CriticalDimension)衡量分辨率。
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