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NR26 25000P光刻胶报价规格尺寸「赛米莱德」

发布时间:2022-01-21 01:55:56        







负性光刻胶

负性光刻胶

    负性光刻胶分为粘性增强负性光刻胶、加工负性光刻胶、剥离处理用负性光刻胶三种。

    A、粘性增强负性光刻胶

    粘性增强负胶的应用是在设计制造中替代基于聚异戊二烯双叠氮的负胶。粘性增强负胶的特性是在湿刻和电镀应用时的粘附力;很容易用光胶剥离器去除,厚度范围是﹤0.1 ~ 120.0 μm,可在i、g以及h-line波长***。

    粘性增强负胶对生产量的影响,消除了基于溶液的显影和基于溶液冲洗过程的步骤。随着***波长的缩短,光刻胶所能达到的极限分辨率不断提高,光刻得到的线路图案精密度更佳,而对应的光刻胶的价格也更高。优于传统正胶的优势:控制表面形貌的优异带宽、任意甩胶厚度都可得到笔直的侧壁、具有一次旋涂即可获得100 μm甩胶厚度、厚胶层同样可得到优越的分辨率、150 ℃软烘烤的应用可缩短烘烤时间、优异的光速度进而增强***通量、更快的显影,100 μm的光胶显影仅需6 ~ 8分钟、光胶***时不会出现光胶气泡、可将一个显影器同时应用于负胶和正胶、不必使用粘度增强剂。

    i线***用粘度增强负胶系列:NP9–250P、NP9–1000P、NP9–1500P、NP9–3000P、NP9–6000P、NP9–8000、NP9–8000P、NP9–20000P。

    g和h线***用粘度增强负胶系列:NP9G–250P、NP9G–1000P、NP9G–1500P、NP9G–3000P、NP9G–6000P、NP9G–8000。

    B、加工负胶

    加工负胶的应用是替代用于RIE加工及离子植入的正胶。加工负胶的特性在RIE加工时优异的选择性以及在离子植入时优异的温度阻抗,厚度范围是﹤0.1 ~ 120.0 μm,可在i、g以及h-line波长***。

    加工负胶优于正胶的优势是控制表面形貌的优异带宽、任意甩胶厚度都可得到笔直的侧壁、具有一次旋涂即可获得100 μm甩胶厚度、厚胶层同样可得到优越的分辨率、150 ℃软烘烤的应用可缩短烘烤时间、优异的光速度进而增强***通量、更快的显影,100 μm的光胶显影仅需6 ~ 8分钟、光胶***时不会出现光胶气泡、可将一个显影器同时应用于负胶和正胶、优异的温度阻抗直至180 ℃、在反应离子束刻蚀或离子减薄时非常容易地增加能量密度,从而提高刻蚀速度和刻蚀通量、非常容易进行高能量离子减薄、不必使用粘度促进剂。同时,这一步骤还可以减轻因高速旋转形成的薄膜应力,从而提高光刻胶衬底上的附着性。

    用于i线***的加工负胶系列:NR71-250P、NR71-350P、NR71-1000P、NR71-1500P、NR71-3000P、NR71-6000P、NR5-8000。


光刻胶介绍

光刻胶介绍

光刻胶是一种对光线、温度、湿度十分敏感的材料,可以在光照后发生化学性质的改变,这是整个工艺的基础。

光刻胶有不同的类型,PMMAPMGI)以及DNQ(酚醛树脂)等材料都可以做光刻胶。

 目前光刻胶市场上的参与者多是来自于美国、日本、韩国等***,包括 FUTURREX、陶氏化学、杜邦、富士胶片、信越化学、住友化学、LG化学等等,中国公司在光刻胶领域也缺少核心技术。

 


LCD市场助力

***LCD面板总出货面积增长,LCD光刻胶需求增加。据WitsView数据,虽然近三年国际LCD厂商面板出货量有所下降,但是由于大屏显示的市场扩增,LCD整体出货面积变大,2016年出货总面积达到1.7亿平方米,同比增长4.6%。***市场目前,光刻胶单一产品市场规模与海外巨头公司营收规模相比较小,光刻胶仅为大型材料厂商的子业务。随着LCD出货面积的持续增长,中国产业信息网预测,未来几年***LCD光刻胶的需求量增长速度为4%~6%。随着国内厂商占据LCD市场比重越来越大,国内LCD光刻胶需求也会持续增长。


光刻胶

光刻胶由光引发剂、树脂、溶剂等基础组分组成,又被称为光致抗蚀剂,这是一种对光非常敏感的化合物。此外,光刻胶中还会添加光增感剂、光致产酸剂等成分来达到提高光引发效率、优化线路图形精密度的目的。前道工艺出了问题,保证不了科研与生产,光刻胶国产化就遥遥无期。在受到紫外光***后,它在显影液中的溶解度会发生变化。

分类

根据光刻胶按照如何响应紫外光的特性可以分为两类。

正胶

***前对显影液不可溶,而***后变成了可溶的,能得到与掩模板遮光区相同的图形。

优点:分辨率高、对比度好。

缺点:粘附性差、抗刻蚀能力差、高成本。

灵敏度:***区域光刻胶完全溶解时所需的能量

负胶egative






Photo Resist)

与正胶反之。

优点: 良好的粘附能力和抗刻蚀能力、感光速度快。

缺点: 显影时发生变形和膨胀,导致其分辨率。

灵敏度:保留***区域光刻胶原始厚度的50%所需的能量。


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